仪器中文名 :高真空三靶磁控镀膜系统

仪器英文名 :

型号 :TRP-450

制造商 :中国科学院沈阳科学仪器股份公司

产地 :中国

购买年份 :2022-09-26

主要规格及技术指标 :溅射室极限真空度：小于6.6x10-6 Pa

主要功能及特色 :可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜

主要附件及配置 :由溅射真空室、磁控溅射靶、自转基片台、加热系统、直流电源、射频电源、工作气路、真空获得系统、安装机台、真空测量、水冷却及报警系统和控制系统等部分组成，可用于金属薄膜、介质膜等的制备。

应用范围 :

备注 :